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第386章 超级快充浸润式光刻模组（第3页）

DUV浸润式光刻机，大致可以分成六个模组。

掩膜版传送模组、晶圆传送模组、照明模组、投影物镜模组、浸润式光刻模组、双晶圆平台模组。

这六个模组当中，难度最大的就是浸润式光刻模组。

这个模组，也是浸润式光刻机名字的由来。

聊到浸润式光刻模组，那就不得不聊一下投影物镜模组与光刻机的原理。

简单概括一下，光刻机的原理就是利用紫外光，在晶圆上进行雕刻。

投影物镜的作用，就是将照明模组发射出的紫外光收进物镜内，并聚焦成像在晶圆上。

一般来说，由瑞利公式可以得出结论。

投影物镜是越粗，最后制造出来的芯片性能就会更高。

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但是投影物镜要是太粗，又会发生全反射现象，紫外光就无法在晶圆上聚焦了。

换而言之，物镜不够粗，芯片性能就不行。

物镜太粗，直接造不出来了。

这个时候，有人提出了一个天才般的想法。

在晶圆上滴一滴水。

水折射率更高，更不容易发生全反射现象。

这样一来物镜就能做的更粗，造出的芯片就更强。

这也就是浸润式光刻机这个名字的由来。

将晶圆用水浸润了嘛。

但这又面临了一个巨大的问题。

晶圆成像时温度会升高，需要流动的水来进行降温。

但在成像过程中，又要求这流动的水能像光学镜头一样光滑，不能有扰动。

出现扰动会怎么样？

晶圆会报废。

所以这“水”，其实不是一般的水。

这个难题，一直都有困扰着腾达研发中心甚至是全世界相关领域的专家。

腾达研发中心虽有进度，但是进度很慢。

当初黎星若向陈腾提出光刻机制造过程中的难点时，也有提到这个问题衍生出来的子问题。

可是现在，系统把这整个模组的技术详解都给了陈腾。

陈腾将原来超级快充技术详解的U盘拔出，把浸润式光刻模组技术详解的U盘插入。

打开里面的内容一看。

很好，陈腾基本上全都看不懂。

不过陈腾却忍不住笑出了声来。

这次啊，真的是赚大了！

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